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砷化鎵晶片
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砷化鎵晶片

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    砷化鎵(gallium arsenide),化學(xué)式GaAs,屬Ⅲ-Ⅴ族化合物半導(dǎo)體,由砷和鎵兩種元素化合而成,外觀呈亮灰色,具金屬光澤、性脆而硬,是當(dāng)代國(guó)際公認(rèn)的繼"硅(Silicon)"之后最成熟的化合物半導(dǎo)體材料,具有高頻率、高電子遷移率、高輸出功率、低噪音以及線性度良好等優(yōu)越特性,是光電子和微電子工業(yè)最重要的支撐材料之一。

    在光電子工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用層面,砷化鎵單晶可被用于制作LD(激光器)、LED(發(fā)光二極管)、光電集成電路(OEIC)、光伏器件等;
    在微電子工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用層面,可被用于制作MESFET(金屬半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管)、HEMT(高電子遷移率晶體管)、HBT(異質(zhì)結(jié)雙極晶體管)、IC、微波二極管、Hall器件等。

    主要涉及高端軍事電子應(yīng)用、光纖通信系統(tǒng)、寬帶衛(wèi)星無(wú)線通信系統(tǒng)、測(cè)試儀器、汽車電子、激光、照明等領(lǐng)域。作為重要的半導(dǎo)體材料,GaAs的電子遷移率為硅和氮化鎵的5倍,用于中小功率微波器件具有更低的功率損耗,因此在手機(jī)通訊、局域無(wú)線網(wǎng)、GPS和汽車?yán)走_(dá)等領(lǐng)域中占主導(dǎo)地位。

 產(chǎn)品規(guī)格說(shuō)明  

晶體材料

Single Crystal Gallium Arsenide, VGF / LECgrown, 高純單晶

晶向

(1 0 0) / (1 1 1)

摻雜

Undoped

 Zn

Si / Te

直徑

50~150mm ± 0.25mm2" 3"、 4"、6"

厚度

350 ± 25um / 550 ± 25um / 625 ± 25um

晶向

 100 )or(111) α 0 ±β 0, off angle α and accuracy β upon request

電阻率

(1-30)x10 7 Ω.cm

(1-10)x10 -3 Ω.cm

遷移率

1500~3000       3000~5000 cm2 / V·sec

N / A

摻雜濃度

N / A

(0.1-3.0)×10 18 /cm3

腐蝕缺陷密度

≤ 5·103 cm-2

 ≤ 7·10 4cm-2

≤ 5·102 cm-2

主定位邊

(0-1-1)±0.5deg, 16 ±1.0mm /22±1.0mm/32.5±1.0mm

次定位邊

(0-1 1) )±5.0 deg, 8 ±1.0mm / 11±1.0mm/ 18±1.0mm

正面

Polished in Epi-ready Prime grade, 外延生長(zhǎng)級(jí)拋光

反面

Polished / Lapping or Etched, 拋光 / 研磨或腐蝕

Epi-ready

Yes

 

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